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地形环境制作软件Vue R4/R5 + PlantFactory + Extra 2020 + Plugins Win/Mac

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e-on Vue是地形编辑生成软件,它可以自动将真实世界的地形数据检索为高度图或程序性地形,还可以将动画云和云层导出到动画VDB,而且是每帧一个VDB文件,这就可以供我们在多维中使用啦,还新增了对Substance的.sbsar文件的支持,是自然3D环境创建的必备软件。

版本:Vue R4+R5 + PlantFactory + 2020的新内容 + Vue插件 | 文件大小:7.8 GB | 文件编号:20606261326 | 官方:e-on

asilefx Vue 2016 Terrain Workshop - 地形环境制作软件Vue R4/R5 + PlantFactory + Extra 2020 + Plugins Win/Mac

软件功能

  • 现在可以将动画云和云层导出到动画VDB(每帧一个VDB文件)
  • 烘焙所有材质的PBR通道并将其导出为纹理贴图
  • 导出纹理贴图的新颜色融合(涂抹+平均颜色填充)
  • 添加了遮挡处理选项,允许用户在环境遮挡计算,环境遮挡纹理或两者之间进行选择
  • 添加了一些贴图(环境光遮挡,模糊反射,发光,发光)以在导出时编写
  • 为16位灰度纹理添加了烘焙
  • 烘焙纹理时,即使不导出输入纹理,也要使用输入纹理的Alpha,我们不希望获得不同的结果,而无论是否激活Alpha导出
  • 修改了“通用UV”导出算法,以避免在某些情况下制作成千上万个网格零件,使它成为更紧凑的零件以更好地包装
  • 为“普通UV”使用更好的包装
  • 确保将烘焙的法线贴图标准化
  • 重新设计并优化了FBX导入
  • [导入/ DEM]现在,导入DEM文件可在创建程序地形或高度场之间进行选择(注意:以前仅是程序地形)
  • 路径追踪器现在支持相机正投影和胶片偏移
  • 为路径跟踪器添加了Multi-Pass渲染输出
  • 在渲染堆栈中,现在可以从现有克隆中克隆渲染,而不仅仅是从原始渲染中克隆
  • 从渲染隐藏场景层现在可以隐藏其云层
  • 新增了从天空导出选项中打开渲染选项的功能
  • 允许从气氛浏览器拖放
  • [RenderArea]支持从中心缩放现有渲染区域(按Alt)并保留其长宽比(按Shift)
  • 新增了在相机背景幕编辑器中修改伽玛的可能性
  • 现在可以在主框架中拖放气氛文件(.atm)
  • 在过滤器编辑器中添加了“父级”和“级联”的刷新(适用于PlantFactory发布的参数)
  • 在随机范围参数中添加了“自定义方差”的最小/最大版本(适用于PlantFactory发布的参数)
  • 使用地图时增加了PBR频道的调制
  • 即使在我们尝试在崩溃后继续执行程序时,也允许发送崩溃报告。
  • 新增了对MacOS Catalina(10.15)的支持
  • 真实地形的卫星地图
  • 云变形v2
  • 大大提高了显示速度和UI响应速度
  • 新的以鼠标为中心和以目标为中心的高级场景导航模式
  • MetaCloud技术的多项改进
  • EcoSystem缓存生成速度提高6倍
  • 极大的生态系统人口渲染速度提高10%
  • 在3dsMax,Maya和Cinema4D中具有本地实例的生态系统种群
  • VUE xStream现在支持LightWave 2018
  • 新钻石离开节点
  • 季节性材料编辑
  • 许多花节点的改进
  • 行业标准快捷方式(基于Alt的导航)
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